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                  申博太阳城

                  許開東導師

                  時間:2019-05-09瀏覽:10設置

                  姓名:

                  許開東

                  性別:

                  出生年月:

                  1977.03

                  學歷:

                  博士研究生

                  職稱:

                  教授

                  Email

                  kaidong.xu@leuven-instruments.com

                  專業與主要研究方向:

                  專業:半導體器件及工藝技術

                  主要研究方向:半導體設備及工藝技術,具體有集成電路裝備製造和相關材料刻蝕沉積等工藝研究

                  教授課程:

                  半導體器件與技術相關講座

                  研究生培養基礎要求:

                  對半導體材料、工藝和設備相關研究和科研工作有濃厚興趣 ,熱愛創新工作 。

                  個人教育簡歷:

                  1995 – 1999, 北京大學 化學學士

                  1999 – 2004, 比利時魯汶大學 化學博士

                  個人工作簡歷:

                  1999-2004,比利時微電子所(IMEC) ,研究員

                  2004-2008,瑟斯半導體(SEZ),項目經理

                  2008-2010, 科林研發 (Lam),奧地利, 資深工藝經理

                  2010–2012, 比利時微電子所(IMEC) , 等離子體刻蝕組研發主管

                  2012–2015, 比利時微電子所(IMEC) ,等離子刻蝕研發部門經理,先進圖案中心運營總監

                  2015-至今 , 江蘇魯汶儀器有限公司, 董事長兼總經

                  201611月 ,中國科學院微電子研究所 ,客座研究員

                  2018-至今 ,申博太阳城 教授

                  近期主要主持的項目:

                  序號

                  項目名稱與起止時間

                  項目來源與類別

                  獲得資助金額

                  項目進度與成果轉化情況

                  1

                  9045納米技術代2004-01-05—2008-11-28

                  瑟林、歐州微電子合作開發

                  300w

                  已完成

                  2

                  溼法清洗工藝技術研發2008-12-01—2010-11-30

                  科林研發公司

                  400w

                  已完成

                  3

                  28納米技術代的中道及後道等離子刻蝕工藝開發2010-12-01—2012-11-30

                  歐洲微電子研究所

                  200w

                  已完成

                  4

                  10納米及7納米技術代的中道及後道等離子刻蝕工藝開發2012-12-03—2015-09-30

                  歐州微電子研究所

                  500w

                  已完成

                  5

                  3D及存儲器刻蝕技術開發2015-10-09—2018-04-30

                  魯汶儀器有限公司

                  300w

                  已完成

                  代表性論文:

                  刊號及編號

                  題目

                  年卷頁碼

                  發表時間

                  第一作者/通訊作者

                  單位

                  10.1149/1.2779405

                  Modifications     of porous Low-k by Plasma Treatments and Wet Cleans

                  409-416

                  2007-11-02

                  K.Xu

                  The     Electrochemical Society

                  10.1149/1.2779395

                  Post     Salicidation Clean :Selective Removal of Un-reacted NiPt towards NiPtSi(Ge)

                  327-334

                  2007-11-02

                  K.Xu

                  The Electrochemical     Society

                  PV2008-1

                  Advances     and Challenges in Post Salicidation Cleans for 45Nm Technology Node and     Beyond

                  419-429

                  2008-01-25

                  K.Xu

                  Proceedings-Electrochemical     Society

                  1342008

                  Aging     Phenomena in the Removal of Nano-particles from Si Wafers

                  155-158

                  2008-04-03

                  G.Vereecke

                  Trans     Tech Publications,Switzerland

                  145-1462009

                  Removal     of Nano-particles by Aerosol Spray:

                  31-34

                  2009-01-06

                  K.Xu

                  Trans     Tech Publications Ltd

                  10.1143/JAPP

                  Patterning     of 25 nm Contact Holes at 90 nm Pitch: Combination of Line/Space Double

                  50.08JE07

                  2011-08-22

                  Jean-Franco     de Marneffe

                  JAPP

                  10.1117/12.2011586

                  15nm     HP patterning with EUV and SADP:

                  8685     86850C

                  2013-04-22

                  K.Xu

                  SPIE

                  參與編制國內首本申博納米集成電路製造工藝的著作,《納米集成電路製造工藝》清華大學出版社 2014


                  專利:

                  METHOD FOR TREATING A SEMICONDUCTIOR   WAFERPCT/IB2010/052648 WO 2010-12-29   1/2

                  METHOD FOR TREATING A SEMICONDUCTIOR   WAFERPCT/IB2010/052646 US 2012-04-26   1/5

                  一種機械手臂上結構改良的夾爪 ZL201610266269.3 中國   2018-01-09 1/1

                  獲獎情況:

                  2016年,入選江蘇省雙創團隊

                  2017年,入選江蘇省雙創個人

                  2016年 ,入選徐州市雙創個人

                  2017年,入選“六大高峯人才團隊”領軍人才

                  2017年 ,第五屆中國江蘇創新創業大賽三等獎

                  2017年 ,江蘇省領軍型新生代企業家培養對象


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